應(yīng)用領(lǐng)域
RCVD系列真空氣氛管式爐廣泛用于高、中、低溫CVD工藝，例如：碳納米管的研制，試驗(yàn)用碳纖維碳化、晶體硅板鍍膜、納米氧化鋅結(jié)構(gòu)可控生長(zhǎng)等等，也可用于金屬材料的擴(kuò)散焊接及真空或氣氛保護(hù)下的熱處理。
主要特點(diǎn)
采用精煉石英管或高純高于管作為爐膛，可拆卸的密封方式，具有良好的潔凈度和真空度，耐火保溫材料全部采用先進(jìn)的輕質(zhì)纖維制品，整機(jī)質(zhì)量輕、低能耗。加熱元件采用優(yōu)質(zhì)硅鉬棒、硅碳棒或進(jìn)口電阻絲；溫度控制系統(tǒng)采用原裝進(jìn)口智能多段程序溫度控制儀控制，具有良好的穩(wěn)定性、均勻性。